Курсовая работа

Получение прозрачно-проводящих пленок оксида цинка ВЧ магнетронным распылением

Работу выполнил

Студент

Глазырина А.А

• Особенности пленок ZnO :
• - Высокая электрическая проводимость и прозрачность в видимом диапазоне волн.
• - Принадлежат к классу полупроводников с широкой запрещенной зоной

• Получение пленок ZnO:
• - Метод газового транспорта,
• - Молекулярно-лучевая эпитаксия
• - Электронно-лучевое испарение
• - Метод импульсного лазерного испарения
• - Метод магнетронного распыления
• - Метод ВЧ магнетронного распыления

• Особенности ВЧ магнетронного распыления :
• - Универсальность процесса, позволяющая получить пленки металлов, сплавов полупроводников и диэлектриков.
• - Высокая скорость осаждения и возможность ее регулировки в широких пределах.
• - Высокая чистота пленки.
• - Высокая адгезия пленок к подложке.
• - Возможность изменения структуры и свойств пленки за счет варьирования параметров процесса распыления.
• - Низкая пористость пленок.

Установка создана на базе агрегата вакуумного УРМ 3.279.029, вакуумная камера которого была подвергнута глубокой модернизации

Установка создана на базе агрегата вакуумного УРМ 3.279.029, вакуумная камера которого была подвергнута глубокой модернизации

• 1. Вакуумная камера
• 2. Смотровое окно
• 3. Подложкодержатели
• 4. Блок питания
• 5. Натекатели
• 6. Источник ионов
• 7. Галогенные низковольтные лампы накаливания КГТ 24-100
• 8. Планетарный механизм(карусель)
• 9. Двухступенчатая система откачки вакуумной камеры
• 10. Вч-генератор
• 11. Согласующее устройство
• 12. Магнетрон

Выводы :

• Проведен литературный обзор по методам нанесения прозрачных проводящих пленок.

2. Определен оптимальный диапазон рабочих режимов нанесения прозрачных проводящих пленок ZnO :

- процентное содержание кислорода 10 %;

- суммарное давление аргона и кислорода 0,25 Па;

- время напыления 2 часа

3. Проведена глубокая модернизация вакуумной системы установки УРМ с установкой современных блоков управления откачкой, системой напуска двух газов с контролируемым расходом каждого, замена вакуумной арматуры (клапана, датчики) установки УРМ на современную.

4. Проведена полная профилактика форвакуумного и высоковакуумного насосов.

5. В настоящее время установка обеспечивает подачу двух газов, нагрев образцов в диапазоне 50-400°С. При подаче мощности на ВЧ магнетрон в диапазоне 50-400 Вт установка должна обеспечивать получение пленок ZnO в различных режимах.